CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
生长温度对In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP的LPMOCVD生长影响
缪国庆; 金亿鑫; 蒋红; 周天明; 李树玮; 元光; 宋航
2002-10-30
发表期刊发光学报
期号05页码:465-468
关键词铟镓砷 生长温度 低压金属有机化学气相沉积
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29107
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
缪国庆,金亿鑫,蒋红,等. 生长温度对In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP的LPMOCVD生长影响[J]. 发光学报,2002(05):465-468.
APA 缪国庆.,金亿鑫.,蒋红.,周天明.,李树玮.,...&宋航.(2002).生长温度对In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP的LPMOCVD生长影响.发光学报(05),465-468.
MLA 缪国庆,et al."生长温度对In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP的LPMOCVD生长影响".发光学报 .05(2002):465-468.
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