CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作
曹召良; 陆广; 王吉增; 杨柏; 卢振武; 李凤有; 任智斌; 刘玉玲
2003-06-25
发表期刊光子学报
期号06页码:653-656
关键词离子束刻蚀 亚微米 离子能量 束流密度 刻蚀速率 表面光洁度
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28934
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
曹召良,陆广,王吉增,等. 亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作[J]. 光子学报,2003(06):653-656.
APA 曹召良.,陆广.,王吉增.,杨柏.,卢振武.,...&刘玉玲.(2003).亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作.光子学报(06),653-656.
MLA 曹召良,et al."亚微米尺寸元件的离子束刻蚀制作".光子学报 .06(2003):653-656.
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