Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响 | |
王晓华; 范希武; 李柄生; 张吉英; 刘益春; 吕有明; 申德振
| |
| 2003-08-25 | |
| 发表期刊 | 光电子·激光
 |
| 期号 | 08页码:783-786 |
| 关键词 | Zno Si衬底 氮化 等离子增强化学气相沉积(Pecvd) |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28745 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王晓华,范希武,李柄生,等. Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响[J]. 光电子·激光,2003(08):783-786. |
| APA | 王晓华.,范希武.,李柄生.,张吉英.,刘益春.,...&申德振.(2003).Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响.光电子·激光(08),783-786. |
| MLA | 王晓华,et al."Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响".光电子·激光 .08(2003):783-786. |
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