Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜 | |
| 汤庆鑫; 路丽霞; 齐秀英; 钟殿强; 初国强; 刘益春 | |
| 2003-06-30 | |
| 发表期刊 | 发光学报
 |
| 期号 | 03页码:284-288 |
| 关键词 | 等离子辅助 电子束蒸发 光致发光 热氧化 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28501 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 汤庆鑫,路丽霞,齐秀英,等. 氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜[J]. 发光学报,2003(03):284-288. |
| APA | 汤庆鑫,路丽霞,齐秀英,钟殿强,初国强,&刘益春.(2003).氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜.发光学报(03),284-288. |
| MLA | 汤庆鑫,et al."氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜".发光学报 .03(2003):284-288. |
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| 氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量Zn（62KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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