RF磁控溅射技术制备TiO_(2-x)N_x薄膜及组成和结构研究

	RF磁控溅射技术制备TiO_(2-x)N_x薄膜及组成和结构研究
	景士伟; 刘益春; 梁宇; 马健钢; 吕有明; 申德振; 张吉英; 范希武
	2005-03-23
发表期刊	东北师大学报(自然科学版)
期号	01 页码:50-53
关键词	Tio2-xnx Xrd Xps 吸收光谱可见光
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28307
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	景士伟,刘益春,梁宇,等. RF磁控溅射技术制备TiO_(2-x)N_x薄膜及组成和结构研究[J]. 东北师大学报(自然科学版),2005(01):50-53.
APA	景士伟.,刘益春.,梁宇.,马健钢.,吕有明.,...&范希武.(2005).RF磁控溅射技术制备TiO_(2-x)N_x薄膜及组成和结构研究.东北师大学报(自然科学版)(01),50-53.
MLA	景士伟,et al."RF磁控溅射技术制备TiO_(2-x)N_x薄膜及组成和结构研究".东北师大学报(自然科学版) .01(2005):50-53.