CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
碳化硅表面硅改性层的特性研究
张峰; 范镝; 高劲松
2012-03-10
发表期刊激光与光电子学进展
期号03页码:141-145
关键词光学表面 碳化硅 表面改性 离子束辅助沉积 表面粗糙度 表面反射率
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28062
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
张峰,范镝,高劲松. 碳化硅表面硅改性层的特性研究[J]. 激光与光电子学进展,2012(03):141-145.
APA 张峰,范镝,&高劲松.(2012).碳化硅表面硅改性层的特性研究.激光与光电子学进展(03),141-145.
MLA 张峰,et al."碳化硅表面硅改性层的特性研究".激光与光电子学进展 .03(2012):141-145.
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