CIOMP OpenIR  > 中科院长春光机所知识产出
碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光
张峰; 邓伟杰
2012-11-10
发表期刊光学学报
期号11页码:194-199
关键词光学制造 磁介质辅助抛光 去除函数 硅改性层
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28061
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
张峰,邓伟杰. 碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光[J]. 光学学报,2012(11):194-199.
APA 张峰,&邓伟杰.(2012).碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光.光学学报(11),194-199.
MLA 张峰,et al."碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光".光学学报 .11(2012):194-199.
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