Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光 | |
张峰; 邓伟杰 | |
2012-11-10 | |
发表期刊 | 光学学报 |
期号 | 11页码:194-199 |
关键词 | 光学制造 磁介质辅助抛光 去除函数 硅改性层 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28061 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张峰,邓伟杰. 碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光[J]. 光学学报,2012(11):194-199. |
APA | 张峰,&邓伟杰.(2012).碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光.光学学报(11),194-199. |
MLA | 张峰,et al."碳化硅表面硅改性层的磁介质辅助抛光".光学学报 .11(2012):194-199. |
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