Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 全息光栅制作中光栅掩模形状随曝光量及干涉场条纹对比度的变化规律 | |
| 韩建; 巴音贺希格; 李文昊; 孔鹏 | |
| 2012-03-10 | |
| 发表期刊 | 光学学报
 |
| 期号 | 03页码:9-15 |
| 关键词 | 光栅 曝光量 条纹对比度 占宽比 槽深 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/27992 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 韩建,巴音贺希格,李文昊,等. 全息光栅制作中光栅掩模形状随曝光量及干涉场条纹对比度的变化规律[J]. 光学学报,2012(03):9-15. |
| APA | 韩建,巴音贺希格,李文昊,&孔鹏.(2012).全息光栅制作中光栅掩模形状随曝光量及干涉场条纹对比度的变化规律.光学学报(03),9-15. |
| MLA | 韩建,et al."全息光栅制作中光栅掩模形状随曝光量及干涉场条纹对比度的变化规律".光学学报 .03(2012):9-15. |
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