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Electron emission from nanocrystalline diamond films
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Gu C. Z.; Jiang X.; Jin Z. S.; Wang W. B.
2001
发表期刊Journal of Vacuum Science & Technology B
ISSN1071-1023
卷号19期号:3页码:962-964
摘要The; electron emission properties: of nanocrystalline diamond films were described. The nanometer structured diamond films were deposited by the microwave plasma assistance chemical vapor deposition method via continuous H+ ion bombardment. The grain size of nanocrystalline diamond films can be modified by means of changing the energy of bombarded ions. Scanning electron microscopy and Raman spectroscopy indicated the nanometer structure of the films. The results suggested that low-field electron emission and high emission current can be obtained from the films consisting of nanosized diamond grains. (C) 2001 American Vacuum Society.
收录类别SCI
语种英语
文献类型期刊论文
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专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
Gu C. Z.,Jiang X.,Jin Z. S.,et al. Electron emission from nanocrystalline diamond films[J]. Journal of Vacuum Science & Technology B,2001,19(3):962-964.
APA Gu C. Z.,Jiang X.,Jin Z. S.,&Wang W. B..(2001).Electron emission from nanocrystalline diamond films.Journal of Vacuum Science & Technology B,19(3),962-964.
MLA Gu C. Z.,et al."Electron emission from nanocrystalline diamond films".Journal of Vacuum Science & Technology B 19.3(2001):962-964.
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