Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计 | |
金春水 | |
2007-12-15 | |
发表期刊 | 光电工程 |
期号 | 12 |
摘要 | 极紫外投影光刻(EUVL)两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构。本文分析了这两种结构在EUVL不同发展阶段的设计特点,并依据有限距反射系统像差理论,从解析解出发,设计了两套平场两镜系统,分别用于对分辨力为70nm、无遮拦、环形视场扫描曝光系统及目前研制的EUVL32nm技术节点小视场曝光系统的研究。系统设计指标满足极紫外投影光刻要求。 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/24038 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 金春水. 极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计[J]. 光电工程,2007(12). |
APA | 金春水.(2007).极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计.光电工程(12). |
MLA | 金春水."极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计".光电工程 .12(2007). |
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