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紫外刻划光栅母版及二代版衍射特性的模拟与分析
巴音贺希格
2007-07-15
发表期刊光学学报
期号7
摘要运用微分理论对刻线密度为1200lp/mm的紫外刻划光栅母版及其二代复制版的衍射特性做了模拟,指出了二者之间存在的差异,并与测试结果做了对照。数值模拟表明,紫外刻划光栅二代复制版的衍射特性与其母版略有不同,原因是光栅槽形发生了改变,分别给出了采用多项式拟合槽形函数和傅里叶级数拟合槽形函数的方法。此理论分析方法为澄清光栅复制工艺中的争议完善翻版技术以及寻找提高紫外光栅衍射效率的途径提供了很好的理论参考依据。
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23918
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
巴音贺希格. 紫外刻划光栅母版及二代版衍射特性的模拟与分析[J]. 光学学报,2007(7).
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