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光学元件离子束加工驻留时间优化求解
卢振武; 张红鑫
2010-01-21
发表期刊光学学报
ISSN0253-2239
卷号30期号:1页码:192-197
摘要为了实现光学元件的高精度加工,对离子束加工过程中关键的驻留时间求解算法进行了研究。通过分析离子束加工过程的基本原理,将传统的驻留时间反卷积求解过程转化为求解矩阵方程过程。在将正则化加权因子引入矩阵方程的基础上,又引入额外加工余量这一新的参量,增加了解的自由度,从而扩大了驻留时间解的搜索范围,同时将Gerchberg带限外插算法应用于初始面形的优化延拓中,保证了全孔径范围内面形精度一致。实例计算50mm的平面光学元件表明,面形精度从初始的均方根值为0.5747λ,峰谷值为2.3706λ(λ=632.8nm)收敛到全孔径范围内的均方根值为0.001λ,峰谷值为0.0115λ。由此可见该优化求解过程可有效地求解出驻留时间,为离子束加工过程提供了有力的保障。
收录类别EI
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23490
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
卢振武,张红鑫. 光学元件离子束加工驻留时间优化求解[J]. 光学学报,2010,30(1):192-197.
APA 卢振武,&张红鑫.(2010).光学元件离子束加工驻留时间优化求解.光学学报,30(1),192-197.
MLA 卢振武,et al."光学元件离子束加工驻留时间优化求解".光学学报 30.1(2010):192-197.
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