Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 溅射法制备多层膜沉积速率的标定 | |
张立超
| |
| 2010-12-01 | |
| 发表期刊 | 光学精密工程
 |
| ISSN | 1004-924x |
| 卷号 | 18期号:12页码:待定 |
| 摘要 | 为消除溅射沉积多层膜过程中产生的膜厚随机误差,实现多层膜膜厚的精确控制,提出了一种精确标定薄膜沉积速率的方法。该方法通过对多次实验结果进行最小二乘拟合得到薄膜沉积速率。对随机误差基本特性的分析表明,随着实验次数的增加,沉积速率将逐渐逼近真值。基于这一原理,可以对薄膜的沉积速率进行精确标定,同时提取出膜厚随机误差,进而确定镀膜机的膜厚控制精度,获得精确控制多层膜膜厚所需要的完整信息。选用两种精度不同的沉积设备,采用提出的方法对所制备的多层膜进行了测试。结果表明,多层膜的膜厚控制精度随沉积设备而异:其中低成本的普通镀膜机只能实现0.1nm的膜厚控制精度;而另一台性能较高的镀膜机的膜厚控制精度优于0.01nm。 |
| 收录类别 | EI |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23479 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张立超. 溅射法制备多层膜沉积速率的标定[J]. 光学精密工程,2010,18(12):待定. |
| APA | 张立超.(2010).溅射法制备多层膜沉积速率的标定.光学精密工程,18(12),待定. |
| MLA | 张立超."溅射法制备多层膜沉积速率的标定".光学精密工程 18.12(2010):待定. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 溅射法制备多层膜沉积速率的标定.caj（215KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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