Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| K9基底细薄铜网上的化学镀镍 | |
冯晓国 ; 刘小涵; 赵晶丽; 高劲松
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| 2010-10-20 | |
| 发表期刊 | 光学精密工程
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| ISSN | 1004-924X |
| 卷号 | 18期号:10页码:2185-2191 |
| 摘要 | 为进一步提高高通光率网栅的电磁屏蔽性能,满足其环境适应性要求,针对线宽约9μm、膜厚约0.3μm、周期为400μm×400μm的细薄铜网进行了镀镍工艺实验。首先,经涂胶、直写、显影、镀铜、去胶等工序,在K9基底上制备出细薄铜网栅试件。然后,对试件超声波除油,用10%的HCl溶液浸泡试件10～15s进行镀前活化处理。接着,将试件放入按成分要求配制好的化学镀镍溶液中,在恒温85℃条件下化学镀镍40～60min。最后,从化学镀镍溶液中取出试件,放入烘箱烘干,缓慢冷却至室温。实验结果显示:得到的试件镀层均匀、结合力强;用同轴法测试网栅化学镀镍后的电磁屏蔽效能达到32dBm,比未镀镍前提高了11dBm,且试件镀镍工艺导致的在400～800nm波段的平均透过率下降小于1%。这些结果表明,在细薄铜网上能够镀制较好的镍层,可以在基本不影响光学透过率的前提下显著提高其电磁屏蔽效能和环境适应性。 |
| 收录类别 | EI |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23435 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯晓国,刘小涵,赵晶丽,等. K9基底细薄铜网上的化学镀镍[J]. 光学精密工程,2010,18(10):2185-2191. |
| APA | 冯晓国,刘小涵,赵晶丽,&高劲松.(2010).K9基底细薄铜网上的化学镀镍.光学精密工程,18(10),2185-2191. |
| MLA | 冯晓国,et al."K9基底细薄铜网上的化学镀镍".光学精密工程 18.10(2010):2185-2191. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| K9基底细薄铜网上的化学镀镍.caj（506KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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