Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| RB_SiC基底反射镜表面改性工艺的改进 | |
高劲松 ; 王笑夷
| |
| 2009-05-05 | |
| 发表期刊 | 光学精密工程
 |
| ISSN | 1004-924X |
| 卷号 | 5期号:17页码:969 |
| 摘要 | 为了满足空间用大口径、复杂轻量化结构RB-SiC基底反射镜对高性能表面质量的需求,针对RB-SiC基底的特性,提出了改进表面改性工艺的方法。采用高能量考夫曼离子源辅助,预先对基底进行碳化和加镀C缓冲层,并制备Si改性涂层的方法对RB-SiC基底进行了表面改性。测试结果表明:与单纯霍尔离子源辅助方法相比,该工艺方法制备的Si改性涂层生长得更加致密、均匀,抛光特性良好;改性抛光后表面粗糙度(rms)降低到0.635nm,达到了S-SiC基底的水平;改性后RB-SiC基底的反射率明显提高,达到了抛光良好的微晶玻璃的水平。结果表明,该工艺方法是提高RB-SiC基底表面改性效果的一种合理有效的方法。 |
| 收录类别 | EI |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23373 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高劲松,王笑夷. RB_SiC基底反射镜表面改性工艺的改进[J]. 光学精密工程,2009,5(17):969. |
| APA | 高劲松,&王笑夷.(2009).RB_SiC基底反射镜表面改性工艺的改进.光学精密工程,5(17),969. |
| MLA | 高劲松,et al."RB_SiC基底反射镜表面改性工艺的改进".光学精密工程 5.17(2009):969. |
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