Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 碳化硅陶瓷新型反应连接技术 | |
赵汝成 ; 赵文兴
| |
| 2008-06-09 | |
| 发表期刊 | 光学精密工程
 |
| 期号 | 6 |
| 摘要 | 在碳化硅陶瓷反应连接工艺的基础上研究了一种新型的反应连接工艺,利用该工艺连接了自制的反应烧结碳化硅(RB-SiC)陶瓷。对连接的RB-SiC陶瓷样品表面初步抛光后,测试了焊缝宽度、焊缝处的显微组织结构、连接层的力学性能和高低温实验后连接层对表面面形的影响。测试结果表明:利用新型反应连接工艺连接的RB-SiC陶瓷的焊缝宽度分布在54~77μm之间;焊缝处的显微组织结构非常均匀,接近基体材料;测试了10个样品的室温抗弯强度,平均值为307MPa,而且断裂都产生在母材上,说明焊缝处力学性能优异;高低温实验后,整块碳化硅陶瓷表面面形无变化,说明连接层的热学性能与母材一致,无残余应力。 |
| 收录类别 | EI |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23204 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵汝成,赵文兴. 碳化硅陶瓷新型反应连接技术[J]. 光学精密工程,2008(6). |
| APA | 赵汝成,&赵文兴.(2008).碳化硅陶瓷新型反应连接技术.光学精密工程(6). |
| MLA | 赵汝成,et al."碳化硅陶瓷新型反应连接技术".光学精密工程 .6(2008). |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 碳化硅陶瓷新型反应连接技术.caj（377KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [赵汝成]的文章 |
| [赵文兴]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [赵汝成]的文章 |
| [赵文兴]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [赵汝成]的文章 |
| [赵文兴]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论