空间RB_SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术

	空间RB_SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术
	郑立功; 范镝
	2008-12-28
发表期刊	光学精密工程
期号	12
摘要	针对空间相机用反射镜RB-SiC材料由Si\SiC两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了表面离子辅助沉积(IAD)硅膜的改性新方案以优化RB-SiC光学表面反射率。对厚度为10±0.5μm的IAD-Si改性层的主要性能研究显示:IAD-Si膜层为非结晶结构,能够提供较好的抛光表面,在77～673K的热冲击下膜层稳定性良好。以Si膜的抛光机理为依据,对IAD-Si改性层进行了大量抛光工艺实验和表面质量测试,给出了关键的抛光工艺参数和实验结果。通过表面IAD-Si改性及本文提出的改性层超精加工技术能够在反射镜表面得到面形精度RMS值优于1/20λ(λ=632.8nm)且表面粗糙度RMS值<0.5nm的超光滑表面;与改性前相比,反射镜改性层抛光表面在360～1100nm波段的反射率提高了4.5%以上。
收录类别	EI
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/23112
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	郑立功,范镝. 空间RB_SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术[J]. 光学精密工程,2008(12).
APA	郑立功,&范镝.(2008).空间RB_SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术.光学精密工程(12).
MLA	郑立功,et al."空间RB_SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术".光学精密工程 .12(2008).

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