Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 纳米级薄膜厚度的精确测量 | |
张立超
| |
| 2010-10-01 | |
| 发表期刊 | 光机电信息
 |
| ISSN | 1007-1180 |
| 卷号 | 27期号:10页码:45-49 |
| 摘要 | 对于纳米级多层膜来说,膜厚的精确测量至关重要。本文针对X射线衍射测量薄膜厚度的方法,对所能够获得的测量精度进行了研究。结果表明,无论是单层膜还是多层膜,实现样品台的精密装调都是获得膜厚精确测量结果的前提条件;而在实现了精密装调的情况下,由于多层膜具有相对较窄的衍射峰,因此能够提取出更为精确的峰位数据,与单层膜相比,能够得到更精确的膜厚;经过合理地选择衍射峰,能够获得优于0.01nm的多层膜周期厚度测量精度。 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/22257 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张立超. 纳米级薄膜厚度的精确测量[J]. 光机电信息,2010,27(10):45-49. |
| APA | 张立超.(2010).纳米级薄膜厚度的精确测量.光机电信息,27(10),45-49. |
| MLA | 张立超."纳米级薄膜厚度的精确测量".光机电信息 27.10(2010):45-49. |
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