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环带抛光技术材料去除理论模型研究
陈亚
2009-10-01
发表期刊中国光学与应用光学
ISSN1674-2915
卷号5期号:2页码:414
摘要为了完善环带抛光技术并指导加工,根据Preston方程建立了材料去除量的理论模型。考虑环带抛光技术中的影响因素,如抛光盘与工件之间的转速比、偏心距及压强分布等参数,建立了材料去除量与各影响因素之间相互关系的数学模型。理论分析和实验结果显示,转速比、偏心距和压强分布对磨削量均有影响,材料的去除效率随转速比和偏心距增加而增大,转速比越接近于1,磨削越均匀;工件露边时,工件露出部分材料的去除效率急剧下降。实验结果表明,通过对该理论模型中相关技术参数的研究来完善环带抛光技术,有效地提高了抛光的效率及稳定性。
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21783
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
陈亚. 环带抛光技术材料去除理论模型研究[J]. 中国光学与应用光学,2009,5(2):414.
APA 陈亚.(2009).环带抛光技术材料去除理论模型研究.中国光学与应用光学,5(2),414.
MLA 陈亚."环带抛光技术材料去除理论模型研究".中国光学与应用光学 5.2(2009):414.
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