Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
应用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺 | |
吴一辉; 张平 | |
2008-02-01 | |
发表期刊 | 功能材料与器件学报 |
期号 | 2 |
摘要 | 研究了一种可用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺。分析了微小面积电镀时出现边缘效应的问题,提出了增加牺牲结构的方法提高沉积速率并降低电镀边缘效应。通过脉冲微电镀实验,讨论了电流对电镀边缘效应的影响,同时分析了影响镀层表面质量的因素,得出了一组具有参考价值的电镀参数,电镀出了长620μm、宽500μm、厚2μm的微反射镜表面结构,经测量计算,该条件下,镍的生长速度约为0.1μm/min,表面平均粗糙度约为4.376nm。 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21503 |
专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴一辉,张平. 应用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺[J]. 功能材料与器件学报,2008(2). |
APA | 吴一辉,&张平.(2008).应用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺.功能材料与器件学报(2). |
MLA | 吴一辉,et al."应用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺".功能材料与器件学报 .2(2008). |
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应用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺.caj(539KB) | 开放获取 | -- | 浏览 下载 |
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