PDMS氧等离子体长效活性表面处理及与Si的键合

	PDMS氧等离子体长效活性表面处理及与Si的键合
	张平; 黎海文
	2008-10-01
发表期刊	功能材料与器件学报
期号	5
摘要	为了实现室温、常压下聚二甲基硅氧烷(PDMS)与硅的键合,本文利用氧等离子体分别对PDMS、硅进行表面改性处理。考察了等离子体射频电源功率、处理时间、氧气流量对PDMS-硅键合强度的影响。通过优化工艺适当降低PDMS表面被氧化的程度,可使PDMS活性表面的持续时间延长至45分钟,实现了PDMS-硅在室温常压下的永久性键合。通过X-射线光电子能谱(XPS)对改性后PDMS表面化学组分变化的分析,可推断出PDMS表面Si-OH的稳定性是影响键合强度的主要因素。
文献类型	期刊论文
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21359
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	张平,黎海文. PDMS氧等离子体长效活性表面处理及与Si的键合[J]. 功能材料与器件学报,2008(5).
APA	张平,&黎海文.(2008).PDMS氧等离子体长效活性表面处理及与Si的键合.功能材料与器件学报(5).
MLA	张平,et al."PDMS氧等离子体长效活性表面处理及与Si的键合".功能材料与器件学报 .5(2008).