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基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理
李文昊; 巴音贺希格; 齐向东
2007-02-15
发表期刊微细加工技术
ISSN1003-8213
期号1
摘要根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响。实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀。结果表明,利用表面张力作用可使熔融状态下的光刻胶光栅刻槽表面变得平滑,粗糙度降低,并且成功地在K9玻璃基底上得到了槽形较好的全息光栅。
关键词全息光栅 光刻胶热熔法 离子束刻蚀 原子力显微镜
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/21228
专题中科院长春光机所知识产出
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GB/T 7714
李文昊,巴音贺希格,齐向东. 基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理[J]. 微细加工技术,2007(1).
APA 李文昊,巴音贺希格,&齐向东.(2007).基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理.微细加工技术(1).
MLA 李文昊,et al."基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理".微细加工技术 .1(2007).
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