二氧化硅光学镀膜材料的制备方法及二氧化硅材料 （发明）

	二氧化硅光学镀膜材料的制备方法及二氧化硅材料（发明）
	崔承甲; 刘占国
	2002-09-18
专利权人	中国科学院长春光学精密机械研究所
公开日期	2002-09-18
专利类型	发明专利
摘要	α－ＳｉＯ↓［２］光学镀膜材料的制备方法，是一种制备光学镀膜材料的新的工艺方法，它省去了通常制备玻璃态ＳｉＯ↓［２］光学镀膜材料需在１７００℃以上高温熔融的复杂的工艺流程，代之而来的制备结晶态α－ＳｉＯ↓［２］光学镀膜材料，只需在较低温度不超过６００℃的条件下……
申请日期	1996-12-23
专利号	1091079
语种	中文
申请号	96117374.2
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12621
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	崔承甲,刘占国. 二氧化硅光学镀膜材料的制备方法及二氧化硅材料（发明）. 1091079[P]. 2002-09-18.