中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

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	双层双面平面微线圈 (实用新型)
	梁静秋; 郭占社; 吴一辉; 宣明
	2004-08-18
专利权人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期	2004-08-18
专利类型	实用新型
摘要	本实用新型属于微机械构件，涉及一种对微型平面线圈的改进。包括：衬底１、上、下绝缘层２、３，上、下一层电铸阴极４、５，上、下一层微线圈６、７，上、下一层微线圈绝缘层８、９，上二层电铸阴极１０、１６，下二层电铸阴极１１、１７，上、下二层微线圈１２、１３，上、下保护层１４、１５，上、下附加磁芯１８、１９，磁芯２０，解决了单面……
资助项目	2634714
申请号	3212217.9
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12377
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	梁静秋,郭占社,吴一辉,等. 双层双面平面微线圈 (实用新型)[P]. 2004-08-18.

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CN200400263471400000（431KB）			开放获取	--	浏览 下载

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