辐照密度高均匀性的ＡｒＦ激光薄膜元件损伤测试装置 (发明)

	辐照密度高均匀性的ＡｒＦ激光薄膜元件损伤测试装置 (发明)
	邓文渊; 金春水; 常艳贺; 靳京城
	2012-03-28
专利权人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期	2012-08-29
专利类型	发明专利
摘要	辐照密度高均匀性的ＡｒＦ激光薄膜元件损伤测试装置涉及ＡｒＦ准分子激光薄膜元件应用技术领域，该装置包括：ＡｒＦ激光传输模块、样品表面ＡｒＦ激光辐射能量密度实时监控模块、光学薄膜样品表面损伤的实时监控与判别模块、电动样品控制台和实验同步控制与数据采集模块；本发明的显著特征是样品表面ＡｒＦ激光辐射能量密度均匀性非常高，可有效……
资助项目	102393383A
申请号	201110346860.7
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12070
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	邓文渊,金春水,常艳贺,等. 辐照密度高均匀性的ＡｒＦ激光薄膜元件损伤测试装置 (发明)[P]. 2012-03-28.