Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 一种采用均匀进气系统的原子层沉积装置 (发明) | |
单崇新; 申赫; 于吉; 刘兴宇; 王双鹏 ; 李炳辉; 申德振
| |
| 2012-01-11 | |
| 专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 公开日期 | 2012-08-29 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 摘要 | 一种采用均匀进气系统的原子层沉积装置，涉及一种原子层沉积装置。它解决现有技术中前驱体与衬底或上一原子层接触的均匀性差、反应物利用率低和材料生长周期长导致的沉积效率低问题。该装置包括反应腔室、第一前驱体容器、第二前驱体容器、辅助吹扫气体容器、第一气体供应管路、第二气体供应管路、辅助吹扫气体供应管路、均匀进气系统和腔体盖等…… |
| 资助项目 | 102312221A |
| 申请号 | 201110262384.0 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/12021 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 单崇新,申赫,于吉,等. 一种采用均匀进气系统的原子层沉积装置 (发明)[P]. 2012-01-11. |
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| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN201210231222100000（579KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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