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一种低温沉积含银类金刚石薄膜的方法 (发明)
王彤彤; 高劲松; 王笑夷
2011-01-26
专利权人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期2012-08-29
专利类型发明专利
摘要一种低温沉积含银类金刚石薄膜的方法属于薄膜沉积技术领域,该方法是:采用已有的真空室及工艺配置,在室温下,调节基底至End-Hall型离子源之间的距离;调节真空室的真空度达到1×10-3Pa;选择CH4和H2作为先驱气体,其体积比为9∶1,CH4输送到End-Hall型离子源中,H2通到End-Hall型离子源出口的上方……
资助项目101956179A
申请号201010529526.0
文献类型专利
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11829
专题中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
王彤彤,高劲松,王笑夷. 一种低温沉积含银类金刚石薄膜的方法 (发明)[P]. 2011-01-26.
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