Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 利用普通紫外光深刻层光刻的分离曝光工艺方法 (发明) | |
廖新胜; 刘云; 王立军
| |
| 2004-10-06 | |
| 专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 公开日期 | 2004-10-06 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 摘要 | 本发明涉及湿法刻蚀中的光刻技术，将抛光的样品用溶剂超声清洗；用热的保护性气体将样品吹干去湿，经粘附增强剂处理；用光刻胶溶液旋转涂覆，在一定温度下烘干去除溶剂；前烘之后的样品完全曝光，再用光刻胶溶液旋转涂覆烘干并掩膜光刻，显影之后固化，得到厚的掩膜光刻胶，最后腐蚀。采用本发明提供的用普通ＵＶ光深层光刻的分离曝光技术，解决…… |
| 资助项目 | 1170208 |
| 申请号 | 1120961.5 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11302 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 廖新胜,刘云,王立军. 利用普通紫外光深刻层光刻的分离曝光工艺方法 (发明)[P]. 2004-10-06. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN200200136502700000（190KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
| 个性服务 |
| 推荐该条目 |
| 保存到收藏夹 |
| 查看访问统计 |
| 导出为Endnote文件 |
| 谷歌学术 |
| 谷歌学术中相似的文章 |
| [廖新胜]的文章 |
| [刘云]的文章 |
| [王立军]的文章 |
| 百度学术 |
| 百度学术中相似的文章 |
| [廖新胜]的文章 |
| [刘云]的文章 |
| [王立军]的文章 |
| 必应学术 |
| 必应学术中相似的文章 |
| [廖新胜]的文章 |
| [刘云]的文章 |
| [王立军]的文章 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论