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凹球面光学器件旋涂光刻胶的方法 (发明)
冯晓国; 高劲松; 赵晶丽; 梁凤超
2009-02-04
专利权人中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期2012-08-29
专利类型发明专利
摘要本发明涉及向光学器件表面上旋涂光刻胶的方法,特别是一种凹球面光学器件旋涂光刻胶的方法。是在凹球面光学器件开口向上静置状态下将光刻胶涂料注入到凹球面的中心处后,立即将凹球面光学器件转为开口向下状态进行水平方向旋转,待光刻胶涂料固化后停止旋转,即在光学器件的凹球面上获得均匀的光刻胶涂层。本发明方法有效地解决了在凹球面光学器……
资助项目101359179
申请号200810050936.X
文献类型专利
条目标识符http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11297
专题中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
冯晓国,高劲松,赵晶丽,等. 凹球面光学器件旋涂光刻胶的方法 (发明)[P]. 2009-02-04.
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