中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

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	一种纳米级多层膜结构的测量方法 (发明)
	金春水; 朱洪力; 张立超
	2008-06-25
专利权人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
公开日期	2012-08-29
专利类型	发明专利
摘要	本发明属于光学测量技术领域，是一种纳米级多层膜结构的测量方法。本发明首先建立周期内四层结构模型，然后测量多层膜的Ｘ射线掠入射反射率Ｒ’，根据多层膜的详细结构模型计算其Ｘ射线掠入射反射率Ｒ，以此建立评价函数ＦＯＭ（ｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，ρ１，ρ２，ρ３，ρ４，σ）＝１／Ｍ∑［ｌｇ（Ｒ’（θ））－ｌｇ（Ｒ（θ））］↑［２……
资助项目	101206112
申请号	200710193585.3
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11083
专题	中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	金春水,朱洪力,张立超. 一种纳米级多层膜结构的测量方法 (发明)[P]. 2008-06-25.

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CN200810120611200000（408KB）			开放获取	--	浏览 下载

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