Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics,CAS
| 真空多元溅射镀膜方法 (发明) | |
| 李会斌 | |
| 2002-07-17 | |
| 专利权人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 公开日期 | 2012-08-29 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 摘要 | 本发明涉及对溅射镀膜方法的改进。按镀膜材料选择交流电源，将交流电源与两组靶连接，使两组靶处于正负电位交替变化的状态；镀膜材料分别放置在两组靶上，根据的需要调节每个靶的功率调节器，靶上的镀膜材料在真空气体放电的环境下发生溅射，被溅射的镀膜材料沉积到衬基上，则在衬基上得到多种元素镀膜材料之间比例可调的薄膜。本发明采用单电源…… |
| 资助项目 | 1358881 |
| 申请号 | 1133487.8 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/11039 |
| 专题 | 中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李会斌. 真空多元溅射镀膜方法 (发明)[P]. 2002-07-17. |
| 条目包含的文件 | 下载所有文件 | |||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN200200135888100000（228KB） | 开放获取 | -- | 浏览 下载 | |||
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